1998
X-ray reflectivity investigations of the interface morphology in strained SiGe/Si multilayers
HOLÝ, Václav; A.A. DARHUBER; J. STANGL; G. BAUER; J. NUTZEL et. al.Základní údaje
Originální název
X-ray reflectivity investigations of the interface morphology in strained SiGe/Si multilayers
Autoři
HOLÝ, Václav; A.A. DARHUBER; J. STANGL; G. BAUER; J. NUTZEL a G. ABSTREITER
Vydání
Semicond. Sci. Technol. UK, Publishing Ltd, 1998, 0268-1242
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.338
Kód RIV
RIV/00216224:14310/98:00000030
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000074143200008
Klíčová slova anglicky
x-ray
Štítky
Změněno: 18. 4. 2000 10:19, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.
Návaznosti
| GA202/97/0003, projekt VaV |
|