High pressure RF discharge and perspective application

BRABLEC, Antonín; Pavel SLAVÍČEK; Miloš KLÍMA a Vratislav KAPIČKA. High pressure RF discharge and perspective application. In 11th Symposium on Elementary Processes and Chemical Reactions in Low Temperature Plasma. 1. vyd. Bratislava: MFF UK, Bratislava, 1998, s. 188-191. ISBN 80-967454-6-8.

Základní údaje

Originální název

High pressure RF discharge and perspective application

Autoři

BRABLEC, Antonín (203 Česká republika, garant); Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika); Miloš KLÍMA (203 Česká republika) a Vratislav KAPIČKA (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Bratislava, 11th Symposium on Elementary Processes and Chemical Reactions in Low Temperature Plasma, s. 188-191, 1998

Nakladatel

MFF UK, Bratislava

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-967454-6-8

Klíčová slova anglicky

RF discharge

Štítky

RF discharge