P 2022

Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

KRUMPOLEC, Richard; Mirko ČERNÁK a František ZELENÁK

Základní údaje

Originální název

Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

Název anglicky

A method of starting the self-propagating reduction-exfoliation process of graphene oxide in a porous material

Vydání

Číslo: 309452, Vydavatel: Úřad průmyslového vlastnictví, Místo vydání: Praha, Název vlastníka: Masarykova univerzita, 2022

Další údaje

Jazyk

čeština

Typ výsledku

Patent

Obor

20501 Materials engineering

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/22:00128344

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

graphene oxide; reduced graphene oxide; porous material; atmospheric plasma; reduction; exfoliation

Štítky

Změněno: 22. 3. 2023 13:15, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce‑exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry.

Anglicky

The method solves the problem of preparing reduced graphene oxide (rGO). Reduction and exfoliation of graphene oxide (GO) is one of the possibilities of production of graphene and graphene-like materials with interesting electrical, thermal and mechanical properties. The method utilizes low-temperature non-isothermal plasma generated at atmospheric pressure to starting a self-propagating reduction-exfoliation process of graphene oxide in a porous material containing graphene oxide to increase the overall electrical conductivity and specific surface of the porous material. The method is based on generating a plasma in close proximity and inside of only a part of the total volume of reduced-exfoliated porous material where starts a self-propagating process of reduction-exfoliation of graphene oxide while specific parameters are met to generate the triggering plasma.

Návaznosti

LM2018097, projekt VaV
Název: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications