J 2023

Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge

HNILICA, Jaroslav; Peter KLEIN; Petr VAŠINA; Rony SNYDERS; Nikolay BRITUN et al.

Základní údaje

Originální název

Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge

Autoři

HNILICA, Jaroslav; Peter KLEIN; Petr VAŠINA; Rony SNYDERS a Nikolay BRITUN

Vydání

Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing Ltd, 2023, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 3.300

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/23:00130646

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

sputtering; multipulse; HiPIMS; discharge; LIF; AAS

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 29. 2. 2024 14:42, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

The behavior of the ground state neutral and singly ionized atoms is studied in multipulse high power impulse magnetron sputtering processes. The time-resolved two-dimensional laser induced fluorescence was used for imaging the discharge volume (density mapping) during the plasma-on and plasma-off time phases. The role of the number of micropulses and delay time between the micropulses in the pulse package is analyzed and discussed systematically. In addition, the propagation of the sputtered particles from the target is investigated.

Návaznosti

90239, velká výzkumná infrastruktura
Název: CEPLANT II