Deposition of CNx Films in Inductively Coupled RF Discharge

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Marek ELIÁŠ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Jan JANČA a Michal LORENC. Deposition of CNx Films in Inductively Coupled RF Discharge. In Proceedings of ICPIG XXIV. 1999. vyd. Warszaw: Institute of Plasma Phycics and Laser Miscofusion, 1999, s. 41-42.

Základní údaje

Originální název

Deposition of CNx Films in Inductively Coupled RF Discharge

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Marek ELIÁŠ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Jan JANČA a Michal LORENC

Vydání

1999. vyd. Warszaw, Proceedings of ICPIG XXIV, s. 41-42, 1999

Nakladatel

Institute of Plasma Phycics and Laser Miscofusion

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Polsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/99:00002183

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000165992000021

Příznaky

Mezinárodní význam

---

Anotace

V originále

Deposition of CNx Films in Inductively Coupled RF Discharge

---

Návaznosti

MSM 143100003, záměr

Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek