2024
Technologie pro měření rychlosti růstu vrstvy a ionizace rozprášeného kovu při depozici s velmi vysokým výkonem
KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Technologie pro měření rychlosti růstu vrstvy a ionizace rozprášeného kovu při depozici s velmi vysokým výkonem
Název česky
Technologie pro měření rychlosti růstu vrstvy a ionizace rozprášeného kovu při depozici s velmi vysokým výkonem
Název anglicky
Technology for measuring the deposition rate and ionisation of sputtered metal during very high-power deposition
Autoři
Vydání
2024
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno
Obor
20506 Coating and films
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/24:00137900
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
depoziční rychlost; ionizace; magnetron
Klíčová slova anglicky
deposition rate; ionisation; magnetron
Technické parametry
V rámci technologického postupu byl studován vliv tlaku a výkonu. Navržená technologie byla ověřena těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 0,25 Pa a výkonu od 10 do 40 kW a pak pro výkon 35 kW a tlaku od 0,1 do 1 Pa.
Změněno: 5. 12. 2024 18:05, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.
V originále
Navržená technologie ukazuje, že funguje spolehlivě a umožňuje úspěšně měřit depoziční rychlost i tok atomů a tok iontů rozprášeného kovu ve stejnosměrném magnetronovém naprašování při aplikaci velmi vysokých výkonů.
Anglicky
The proposed technology demonstrates reliable performance in measuring the deposition rate and the flow of sputtered metal atoms and ions during direct current magnetron sputtering at very high power levels.
Návaznosti
| LM2023039, projekt VaV |
|