Atomic force microscopy measurements of surface roughness quantities important in optics of surfaces and thin films

OHLÍDAL, Ivan; Daniel FRANTA a Petr KLAPETEK. Atomic force microscopy measurements of surface roughness quantities important in optics of surfaces and thin films. In Proceedings of the 4th Seminar on Quantitative Microscopy. Braunschweig: Physikalisch-Technische Bundesanstalt, 2000, s. 124-131. ISBN 3-89701-503-X.

Základní údaje

Originální název

Atomic force microscopy measurements of surface roughness quantities important in optics of surfaces and thin films

Autoři

OHLÍDAL, Ivan; Daniel FRANTA a Petr KLAPETEK

Vydání

Braunschweig, Proceedings of the 4th Seminar on Quantitative Microscopy, od s. 124-131, 8 s. 2000

Nakladatel

Physikalisch-Technische Bundesanstalt

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/00:00002241

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

3-89701-503-X

---

Anotace

V originále

In this paper AFM measurements of the statistical quantities of randomly rough surfaces important in optics are presented. The procedures enabling us to determine the values of the RMS value of the heights, RMS value of the slopes, autocorrelation function of the heights, power spectral density function, one-dimensional distribution of the probability density of the heights and one-dimensional distribution of the probability density of the slopes of the irregularities of roughness of these surfaces on basis of the AFM data are described. An illustration of these procedures is performed using the results achieved for randomly rough surfaces of silicon. A comparison of these AFM results with those obtained for the same samples by the optical method is also introduced in this paper.

---

Návaznosti

GA101/98/0772, projekt VaV	Název: Návrh a konstrukce zařízení pro in-situ měření plošné homogenity tenkých vrstev Investor: Grantová agentura ČR, Návrh a konstrukce zařízení pro in-situ měření plošné homogenity tenkých vrstev
GA202/98/0988, projekt VaV	Název: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
GV106/96/K245, projekt VaV	Název: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
VS96084, projekt VaV	Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze