ELIÁŠ, Marek, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA. Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge. Czechoslovak Journal of Physics. Praha: Academy of Science of the Czech Republic, 2000, roč. 2000, 50(S3), s. 453-456. ISSN 0011-4626.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Autoři ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání Czechoslovak Journal of Physics, Praha, Academy of Science of the Czech Republic, 2000, 0011-4626.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.298
Kód RIV RIV/00216224:14310/00:00002460
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000173132300081
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 17:39.
Anotace
Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.
Návaznosti
GV106/96/K245, projekt VaVNázev: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
ME 301, projekt VaVNázev: Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
ME 367, projekt VaVNázev: Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VS96084, projekt VaVNázev: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 16:13