J 2000

Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

ELIÁŠ, Marek; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA

Základní údaje

Originální název

Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

Autoři

ELIÁŠ, Marek; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA

Vydání

Czechoslovak Journal of Physics, Praha, Academy of Science of the Czech Republic, 2000, 0011-4626

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 0.298

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/00:00002460

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:39, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.

Návaznosti

GV106/96/K245, projekt VaV
Název: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
ME 301, projekt VaV
Název: Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
ME 367, projekt VaV
Název: Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VS96084, projekt VaV
Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze