2000
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
ELIÁŠ, Marek; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČAZákladní údaje
Originální název
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Autoři
ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika, garant); Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika); Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika)
Vydání
Czechoslovak Journal of Physics, Praha, Academy of Science of the Czech Republic, 2000, 0011-4626
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 0.298
Kód RIV
RIV/00216224:14310/00:00002460
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000173132300081
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:39, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.
Návaznosti
GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
ME 301, projekt VaV |
| ||
ME 367, projekt VaV |
| ||
MSM 143100003, záměr |
| ||
OC 527.20, projekt VaV |
| ||
VS96084, projekt VaV |
|