2000
Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films
BURŠÍKOVÁ, Vilma, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Pavel DVOŘÁK, Deepak Prasad SUBEDI, Jan JANČA et. al.Základní údaje
Originální název
Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films
Autoři
BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Deepak Prasad SUBEDI (524 Nepál) a Jan JANČA (203 Česká republika)
Vydání
Miskolc - Lillafüred, Hungary, Abstracts of Invited Lecturers and Contributed Papers ,XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, s. 408-409, 2000
Nakladatel
European Physical Society
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Maďarsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/00:00003103
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
PECVD; Diamond-like Carbon; Protective thin films; Silicon doping;
Příznaky
Mezinárodní význam
Změněno: 17. 7. 2007 17:37, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
Deposition of diamond like films with an incorporation of silicon by plasma enhanced CVD technique from mixture of methane, argon and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Study of the influence of the percentage of HMDSO in the mixture on film properties.
Návaznosti
| MSM 143100003, záměr |
| ||
| VS96084, projekt VaV |
|