D 2001

Optical characterization of DLC:Si films prepared by PECVD

FRANTA, Daniel; Vilma BURŠÍKOVÁ a Lenka ZAJÍČKOVÁ

Základní údaje

Originální název

Optical characterization of DLC:Si films prepared by PECVD

Vydání

Bratislava (Slovakia), Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes, od s. 87-88, 2 s. 2001

Nakladatel

Dept. of Plasma Physics & Inst. of Physics, Comenius University Bratislava (Slovakia)

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00004615

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-223-157

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 17. 7. 2007 17:45, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Multi-sample modification of variable angle of incidence spectroscopic ellipsometry (VASE) was used to characterize silicon doped diamond like carbon (DLC:Si) films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). These films were prepared on wafers of silicon single crystal in the planar capacitively coupled RF reactor. The gas feed for deposition was a mixture of methane (CH4), hexamethyldisiloxane (HMDSO) and argon (Ar).

Návaznosti

GA202/00/P037, projekt VaV
Název: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
GA202/98/0988, projekt VaV
Název: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů