2001
The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
SONNENFELD, Axel; T. M. TUN; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Hans-Erich WAGNER; J. B. BEHNKE et al.Základní údaje
Originální název
The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
Autoři
SONNENFELD, Axel; T. M. TUN; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Hans-Erich WAGNER; J. B. BEHNKE a R. HIPPLER
Vydání
Orleans (France), Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, s. 1835-1840, 2001
Nakladatel
GREMI, CNRS/University of Orleans
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Francie
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/01:00004618
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Příznaky
Mezinárodní význam
Změněno: 17. 7. 2007 17:42, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
Návaznosti
| GA202/00/P037, projekt VaV |
|