ANOPCHENKO, A., M. JERGEL, E. MAJKOVA a V. HOLY. Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study. Physica B. Amsterdam: Elsevier Science, 2001, roč. 305, č. 1, s. 14-20. ISSN 0921-4526/00.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study
Autoři ANOPCHENKO, A., M. JERGEL, E. MAJKOVA a V. HOLY.
Vydání Physica B, Amsterdam, Elsevier Science, 2001, 0921-4526/00.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/01:00005191
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000171072500003
Změnil Změnil: prof. RNDr. Václav Holý, CSc., učo 1656. Změněno: 16. 1. 2002 08:25.
Anotace
Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study
Návaznosti
GA202/00/0354, projekt VaVNázev: Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
Investor: Grantová agentura ČR, Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
VytisknoutZobrazeno: 17. 8. 2024 12:56