J 2002

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

CHOUKOUROV, A.; Y. PIHOSH; V. STELMASHUK; Hynek BIEDERMAN; D. SLAVÍNSKÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Autoři

CHOUKOUROV, A.; Y. PIHOSH; V. STELMASHUK; Hynek BIEDERMAN; D. SLAVÍNSKÁ; M. KORMUNDA a Lenka ZAJÍČKOVÁ

Vydání

Surface & coatings technology, Elsevier Science, 2002, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.267

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/02:00005643

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Klíčová slova anglicky

Rf magnetron; sputtering; SiOx; plasma polymer films

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:57, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Návaznosti

GA202/00/P037, projekt VaV
Název: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek