J 2002

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

CHOUKOUROV, A., Y. PIHOSH, V. STELMASHUK, Hynek BIEDERMAN, D. SLAVÍNSKÁ et. al.

Základní údaje

Originální název

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Autoři

CHOUKOUROV, A. (804 Ukrajina), Y. PIHOSH (804 Ukrajina), V. STELMASHUK (804 Ukrajina), Hynek BIEDERMAN (203 Česká republika), D. SLAVÍNSKÁ (203 Česká republika), M. KORMUNDA (203 Česká republika) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant)

Vydání

Surface & coatings technology, Elsevier Science, 2002, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.267

Kód RIV

RIV/00216224:14310/02:00005643

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000174011400044

Klíčová slova anglicky

Rf magnetron; sputtering; SiOx; plasma polymer films

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:57, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Návaznosti

GA202/00/P037, projekt VaV
Název: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek