KLAPETEK, Petr, Ivan OHLÍDAL, Daniel FRANTA a Pavel POKORNÝ. Analysis of the boundaries of ZrO2 and HfO2 thin films by atomic force microscopy and the combined optical method. Surface and Interface Analysis. USA: John Wiley & Sons, 2002, roč. 34, č. 1, s. 559-564. ISSN 0142-2421.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Analysis of the boundaries of ZrO2 and HfO2 thin films by atomic force microscopy and the combined optical method
Autoři KLAPETEK, Petr (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, garant), Daniel FRANTA (203 Česká republika) a Pavel POKORNÝ (203 Česká republika).
Vydání Surface and Interface Analysis, USA, John Wiley & Sons, 2002, 0142-2421.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.071
Kód RIV RIV/00216224:14310/02:00006294
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000176852600004
Klíčová slova anglicky ZrO2 and Hfo2 films; AFM; optical methods; rough upper boundaries
Štítky AFM, optical methods, rough upper boundaries, ZrO2 and Hfo2 films
Změnil Změnil: Mgr. Daniel Franta, Ph.D., učo 2000. Změněno: 18. 12. 2003 15:20.
Anotace
In this paper an atomic force microscopy analysis of the microrough upper boundaries of ZrO2 and HfO2 thin films is presented. Within this analysis the values of the width, root-mean-square value of heights and power spectral density function of these boundaries are determined for ZrO2 and HfO2 exhibiting different thicknesses. The thickness dependences of the quantities mentioned are introduced. The values of the thicknesses of the films are evaluated using the combined optical method. This optical method is also used to describe boundary microroughness within the effective medium theory. A discussion of the results concerning the microroughness of the upper boundaries of both the ZrO2 and HfO2 thin films is also introduced.
Návaznosti
GA101/01/1104, projekt VaVNázev: Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie
Investor: Grantová agentura ČR, Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie
GA202/01/1110, projekt VaVNázev: Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou
Investor: Grantová agentura ČR, Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou
VytisknoutZobrazeno: 18. 7. 2024 16:20