FRANTA, Daniel, Ivan OHLÍDAL, Petr KLAPETEK a Pavel POKORNÝ. Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods. Surface and Interface Analysis. USA: John Wiley & Sons, 2002, roč. 34, č. 1, s. 759-762. ISSN 0142-2421.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods
Autoři FRANTA, Daniel (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, garant), Petr KLAPETEK (203 Česká republika) a Pavel POKORNÝ (203 Česká republika).
Vydání Surface and Interface Analysis, USA, John Wiley & Sons, 2002, 0142-2421.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.071
Kód RIV RIV/00216224:14310/02:00007050
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000177885900166
Klíčová slova anglicky TiO2 thin films; optical characterization; AFM; boundary roughness
Štítky AFM, boundary roughness, optical characterization, TiO2 thin films
Změnil Změnil: Mgr. Daniel Franta, Ph.D., učo 2000. Změněno: 25. 12. 2003 01:05.
Anotace
In this paper slight roughness of the upper boundaries of TiO2 thin films prepared on substrates formed by single-crystal silicon is studied. Atomic force microscopy (AFM) and an optical method based on combining variable-angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry are used for this purpose. It is shown that the values of the basic statistical quantities characterizing this roughness depend quite strongly on the values of the thicknesses of these films (they increase with increasing thickness). Differences observed between the values of the basic statistical parameters determined by AFM and the optical method are explained. It is also shown that the TiO2 films exhibit an inhomogeneity represented by a profile of the complex refractive index.
Návaznosti
GA101/01/1104, projekt VaVNázev: Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie
Investor: Grantová agentura ČR, Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie
VytisknoutZobrazeno: 21. 9. 2024 23:24