ČURDOVÁ, Eva, Josef KOMÁREK a Petr RYCHLOVSKÝ. Techniky elektrochemické depozice v ETAAS. In Mikroelementy 2002. Český Těšín: Ing. Václav Helán - 2 THETA Český Těšín, 2002, s. 20 - 25. ISBN 80-86380-13-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Techniky elektrochemické depozice v ETAAS
Název anglicky Electrodeposition techniques in ETAAS
Autoři ČURDOVÁ, Eva (203 Česká republika), Josef KOMÁREK (203 Česká republika, garant) a Petr RYCHLOVSKÝ (203 Česká republika).
Vydání Český Těšín, Mikroelementy 2002, od s. 20 - 25, 6 s. 2002.
Nakladatel Ing. Václav Helán - 2 THETA Český Těšín
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10406 Analytical chemistry
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/02:00007851
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-86380-13-0
Klíčová slova anglicky atomic absorption spectrometry; electrothermal atomization; electrodeposition
Štítky atomic absorption spectrometry, Electrodeposition, electrothermal atomization
Změnil Změnil: prof. RNDr. Josef Komárek, DrSc., učo 1739. Změněno: 29. 6. 2007 13:08.
Anotace
Elektrochemická depozice kovů před jejich stanovením atomovou absorpční spektrometrií s elektrotermickou atomizací je vhodnou separační a prekoncentrační metodou. Techniky depozice se odlišují materiálem pracovních elektrod, uspořádáním a způsobem atomizace.
Anotace anglicky
The electrochemical deposition of metals prior to analysis by electrothermal atomic absorption spectrometry is a suitable separation and preconcentration method. Individual deposition techniques differ in the working electrode material, in the arrangement or in the process of atomization.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 21. 5. 2024 14:49