D 2003

Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films

BURŠÍKOVÁ, Vilma; Pavel DVOŘÁK; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Petr KLAPETEK; Jiří BURŠÍK et al.

Základní údaje

Originální název

Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films

Autoři

BURŠÍKOVÁ, Vilma; Pavel DVOŘÁK; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Petr KLAPETEK; Jiří BURŠÍK a Jan JANČA

Vydání

Bratislava, Slovak Republic, Proceedings of SAPP XIV, od s. 197-198, 2 s. 2003

Nakladatel

Pavol Šutta, Jarmila Mullerová, and Róbert Brunner

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/03:00008312

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-8040-195-0

Klíčová slova anglicky

discharge conditions; mechanical properties; plasma deposited films
Změněno: 21. 11. 2003 12:27, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.

Anotace

V originále

Hard diamond like carbon films with insorporation of SiOx were deposited from mixture of methane and HMDSO. The Hardness, elastic modulus, interfacial fracture toughness and their dependence on the HMSDO to methane ratio were studied. The correlation between the discharge parameters and the film properties was determined.

Návaznosti

GA202/01/1110, projekt VaV
Název: Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou
Investor: Grantová agentura ČR, Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou
ME 489, projekt VaV
Název: Studium reaktivity organosilikonových monomerů v depozičním plazmatu
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů