Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films

BURŠÍKOVÁ, Vilma, Pavel DVOŘÁK, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Petr KLAPETEK, Jiří BURŠÍK a Jan JANČA. Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films. In Proceedings of SAPP XIV. Bratislava, Slovak Republic: Pavol Šutta, Jarmila Mullerová, and Róbert Brunner, 2003, s. 197-198. ISBN 80-8040-195-0.

Základní údaje

• Originální název: Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films
• Autoři: BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Česká republika, garant), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Petr KLAPETEK (203 Česká republika), Jiří BURŠÍK (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika).
• Vydání: Bratislava, Slovak Republic, Proceedings of SAPP XIV, od s. 197-198, 2 s. 2003.
• Nakladatel: Pavol Šutta, Jarmila Mullerová, and Róbert Brunner

Další údaje

• Originální jazyk: angličtina
• Typ výsledku: Stať ve sborníku
• Obor: 10305 Fluids and plasma physics
• Stát vydavatele: Slovensko
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/03:00008312
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• ISBN: 80-8040-195-0
• Klíčová slova anglicky: discharge conditions; mechanical properties; plasma deposited films
• Štítky: discharge conditions, mechanical properties, plasma deposited films

Anotace

Hard diamond like carbon films with insorporation of SiOx were deposited from mixture of methane and HMDSO. The Hardness, elastic modulus, interfacial fracture toughness and their dependence on the HMSDO to methane ratio were studied. The correlation between the discharge parameters and the film properties was determined.

Návaznosti

• GA202/01/1110, projekt VaV: Název: Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou

Investor: Grantová agentura ČR, Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou

• ME 489, projekt VaV: Název: Studium reaktivity organosilikonových monomerů v depozičním plazmatu
• MSM 143100003, záměr: Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

• OC 527.20, projekt VaV: Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů