D 2003

Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO

VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ

Základní údaje

Originální název

Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO

Autoři

VALTR, Miroslav (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Brno, JUNIORMAT 03, s. 58-59, 2003

Nakladatel

ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14330/03:00008608

Organizační jednotka

Fakulta informatiky

ISBN

80-214-2462-1

Klíčová slova anglicky

plasma;DLC;films;methane;HMDSO;pecvd;radio frequency;discharge;FTIR;normalized absorbance
Změněno: 29. 5. 2004 18:14, RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc.

Anotace

V originále

Hard diamond like carbon (DLC) films with an addition of SiOx were deposited by capacitively coupled rf discharges from mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). The flow rate was changed in order to vary the SiOx content in the films. Thickness of the films was determined by ellipsometry. FTIR spectra showed presence of C-H bonds as well as silicon bonded to hydrogen and hydrocarbon groups. In the region 630-900 cm-1 normalized absorbance was computed. It is shown that the concentration of silicon containing bonds grows with the flow rate of HMDSO growing.

Návaznosti

GA202/00/P037, projekt VaV
Název: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek