JANČA, Jan, Marek ELIÁŠ a Vlastimil BROŽEK. Reduction of tungsten precursors in inductive rf discharge plasma reactors. High Temperature Material Processes. New York: Begell House Inc.n New York 10920, 2003, roč. 7/2003, č. 3, s. 357-366. ISSN 1093-3611.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Reduction of tungsten precursors in inductive rf discharge plasma reactors
Autoři JANČA, Jan (203 Česká republika, garant), Marek ELIÁŠ (203 Česká republika) a Vlastimil BROŽEK (203 Česká republika).
Vydání High Temperature Material Processes, New York, Begell House Inc.n New York 10920, 2003, 1093-3611.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.116
Kód RIV RIV/00216224:14310/03:00009448
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000189132300009
Klíčová slova anglicky tungsten; tungsten carbide; plasma reduction; plasma carbidization;inductive coupled .h.f. plasma reactor
Štítky plasma carbidization, plasma reduction, tungsten, tungsten carbide
Změnil Změnil: Mgr. Marek Eliáš, Ph.D., učo 16171. Změněno: 9. 8. 2005 11:40.
Anotace
Ammonium paratungstate (APT) was reduced in inductively coupled h.f. plasma reactor(4 MHz,2 kW). As working gas was used hydrogen. If the mixture of hydrogen with hydrocarbon is used (methane, propan butane)it is possible to prepare also tungsten carbide in the ratio up to WC/W=80/20.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VytisknoutZobrazeno: 8. 10. 2024 08:44