J 2004

Deposition of polymer films by rf discharge at atmospheric pressure

SLAVÍČEK, Pavel; Vilma BURŠÍKOVÁ; Antonín BRABLEC; Vratislav KAPIČKA; Miloš KLÍMA et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition of polymer films by rf discharge at atmospheric pressure

Název česky

Depozice polymerních vrstev v rf výboji za atmosférického tlaku

Autoři

SLAVÍČEK, Pavel (203 Česká republika, garant); Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika); Antonín BRABLEC (203 Česká republika); Vratislav KAPIČKA (203 Česká republika) a Miloš KLÍMA (203 Česká republika)

Vydání

Czech. J. Phys. Praha, Institute of Physics Academy of Sciences, 2004, 0011-4626

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 0.292

Kód RIV

RIV/00216224:14310/04:00019762

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000226745500016

Klíčová slova anglicky

deposition of films; rf discharge; plasma diagnostics

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 8. 2. 2008 19:43, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

RF plasma nozzle at atmospheric pressure has been used for deposition of thin films. The mechanical properties of deposited films were studied using indentation technique. Special properties of RF discharges offer hopeful technological applications like deposition of thin solid films. The parameters of the plasma were investigated by spectral and optical methods. The powered RF electrode of the torch discharge plasma source is made from the metal or dielectric pipe with an inner diameter of 1 - 2 mm and with a length of several centimeters. The electrode is connected through the matching unit to the RF generator driven at the frequency of 13.56 MHz. The mixture of argon and n-hexane or HMDSO (hexamethyldisiloxane, C6H18Si2O) gas ows through the RF electrode at the pipe. Polymer films were deposited on the several substrates e.g. glass, brass polished plates and Si wafers.

Česky

Depozice polymerních vrstev v rf výboji za atmosférického tlaku

Návaznosti

GA202/03/0011, projekt VaV
Název: Bariérové mikrovýboje a jejich degradační účinky
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů