2004
Recent Developments on Ionized Physical Vapour Deposition: Concepts, Determination of the Ionization Efficiency and Improvement of Deposited Films
BRETAGNE, Jean; Ludovic DE POUCQUES; Caroline BOISSE-LAPORTE; Gerard GOUSSET; Marie-Christine HUGON et al.Základní údaje
Originální název
Recent Developments on Ionized Physical Vapour Deposition: Concepts, Determination of the Ionization Efficiency and Improvement of Deposited Films
Autoři
BRETAGNE, Jean; Ludovic DE POUCQUES; Caroline BOISSE-LAPORTE; Gerard GOUSSET; Marie-Christine HUGON; Jean-Christophe IMBERT; Olivier LEROY; Lionel TEULÉ-GAY; Michel TOUZEAU a Petr VAŠINA
Vydání
Netherland, Nanostructured Thin Films and Nanodispersion Strengthened Coating, od s. 113-122, 9 s. NATO Science Series II, Vol 155, 2004
Nakladatel
Springer, Kluwer Academic Publisher
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Kapitola resp. kapitoly v odborné knize
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Nizozemské království
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ne
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
1-4020-2220-4
Klíčová slova anglicky
IPVD; magnetron discharge; absorption spectroscopy; deposition
Změněno: 4. 10. 2004 13:22, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
Anotace
V originále
While most of IPVD reactors use radio frequency coil to create additional ionization, we developed an alternative technique in which the ionization of the emitted sputtered vapor is archived by two microwave antennas. Langmuir probe measurement were used to determine electronic density and temperature. Optical emission and absorption spectroscopy has been performed to determine the ionized fraction of the sputtered vapour. Preliminary results are also given for a conventional IPVD system used for the deposition of Ti-based biomaterials.