2004
Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition
GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Y PAINT; Jean Pierre DAUCHOT; M HECQ et al.Základní údaje
Originální název
Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition
Název česky
Preionizovaný pulzní magnetron pro fyzikální depozici z iontů
Název anglicky
Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition
Autoři
GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Y PAINT; Jean Pierre DAUCHOT; M HECQ; Ludovic POUCQUES; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Chrispophe IMBERT; Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU
Vydání
Constanta, Proceeding of Seventeenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases, od s. 227-228, 2 s. 2004
Další údaje
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ne
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
pulsed magnetron discharge preionization deposition
Změněno: 13. 1. 2005 12:47, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition method based on preionised magnetron discharges. By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses.
Česky
K zlepšení kvality deponovaných vrstev magnetronovým výbojem, zejména zvýšením ionizačního stupně rozprášených částic, byla vyvinuta nová metoda založená na preionizaci magnetronového výboje. Této preionizace bylo dosáhnuto superpozicí MW, RF a DC výboje a rychlým anomálním pulzním výbojem. Proudová hustota dosáhla vysokých hodnot v průběhu velmi krátkých pulzů.