GANCIU, Mihai, Stephanos KONSTANTINIDIS, Y PAINT, Jean Pierre DAUCHOT, M HECQ, Ludovic POUCQUES, Petr VAŠINA, Marcel MEŠKO, Jean-Chrispophe IMBERT, Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU. Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition. In Proceeding of Seventeenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases. Constanta, 2004, s. 227-228.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition
Název česky Preionizovaný pulzní magnetron pro fyzikální depozici z iontů
Název anglicky Preionised pulsed magnetron discharge for ionised physical vapour deposition
Autoři GANCIU, Mihai, Stephanos KONSTANTINIDIS, Y PAINT, Jean Pierre DAUCHOT, M HECQ, Ludovic POUCQUES, Petr VAŠINA, Marcel MEŠKO, Jean-Chrispophe IMBERT, Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU.
Vydání Constanta, Proceeding of Seventeenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases, od s. 227-228, 2 s. 2004.
Další údaje
Typ výsledku Stať ve sborníku
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky pulsed magnetron discharge preionization deposition
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 13. 1. 2005 12:47.
Anotace
To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition method based on preionised magnetron discharges. By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses.
Anotace česky
K zlepšení kvality deponovaných vrstev magnetronovým výbojem, zejména zvýšením ionizačního stupně rozprášených částic, byla vyvinuta nová metoda založená na preionizaci magnetronového výboje. Této preionizace bylo dosáhnuto superpozicí MW, RF a DC výboje a rychlým anomálním pulzním výbojem. Proudová hustota dosáhla vysokých hodnot v průběhu velmi krátkých pulzů.
Anotace anglicky
To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition method based on preionised magnetron discharges. By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses.
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 20:03