KUČEROVÁ, Zuzana, Vilma BURŠÍKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Jana FRANCLOVÁ a Vratislav PEŘINA. Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD. Chemické listy. Praha: Česká společnost chemická, 2005, roč. 99, s49-s625, s. 465-467. ISSN 0009-2770.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD
Název česky termální stabilita SiOxCyHz vrstev připravených metodou PECVD
Autoři KUČEROVÁ, Zuzana (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Jana FRANCLOVÁ (203 Česká republika) a Vratislav PEŘINA (203 Česká republika).
Vydání Chemické listy, Praha, Česká společnost chemická, 2005, 0009-2770.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.445
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00013953
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky thermal stability; TDS; PECVD; FTIR; RBSW; ERDA
Štítky ERDA, FTIR, PECVD, RBSW, TDS, thermal stability
Změnil Změnila: Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D., učo 13309. Změněno: 16. 11. 2006 21:25.
Anotace
Thermal stability of SiOxCyHz films prepared using PECVD was studied by TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroscopic elipsometry.
Anotace česky
Termální stabilta vrstev SiOxCyHz připravovaných metodou PECVD byla studována pomocí TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroskopické elipsometrie.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 15. 6. 2024 21:55