AFM Study of Hydrocarbon Thin Films

VALTR, Miroslav, Ivan OHLÍDAL a Petr KLAPETEK. AFM Study of Hydrocarbon Thin Films. In WDS'05 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media (ed. J. Safrankova). Praha: Matfyzpress, 2005, s. 391-396. ISBN 80-86732-59-2.

Základní údaje

Originální název

AFM Study of Hydrocarbon Thin Films

Název česky

AFM studie uhlíkových tenkých vrstev

Autoři

VALTR, Miroslav, Ivan OHLÍDAL a Petr KLAPETEK

Vydání

Praha, WDS'05 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media (ed. J. Safrankova), od s. 391-396, 6 s. 2005

Nakladatel

Matfyzpress

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-86732-59-2

Klíčová slova anglicky

plasma;polymer;films;argon;acetylene;pecvd;pulsed;radio frequency;discharge;afm;rough boundary

Štítky

acetylene, AFM, argon, discharge, films, PECVD, plasma, Polymer, pulsed, radio frequency, rough boundary

---

Anotace

V originále

In this paper atomic force microscope (AFM) study on hydrocarbon thin films was performed. Thin films were prepared using plasma enhanced vapour deposition (PECVD) in pulsed regime. The aim was to see whether the surface roughness of the films changes with the duty cycle. The AFM is a direct measuring technique for scanning surfaces of samples. From obtained images one can compute many quantities characterizing the surface. It is shown that the root mean square (RMS) value of the heights seems to be independent on duty cycle except for region from 10 to 15 \%. Outside of this region the RMS values of the heights vary in the range from 6,3 to 14,8 nm, while for 10 \% it is 96,3 nm and for 15 \% it's 61,7 nm. Unfortunately also the deposition time, which corresponds to different thicknesses of the films, was varied. This could be the reason for many times higher roughness inside the region. Further study of this problem would be needed.

Česky

V tomto článku je popsána AFM studie uhlíkových tenkých vrstev. Tenké vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu. Záměrem bylo zkoumat závislost povrchové drsnosti na trvání cyklu (duty cycle). AFM je přímá technika pro sledování povrchů vzorků. Z naměřených obrázků je možné vypočítat mnoho veličin charakterizujících povrch. Je ukázáno, že střední kvadratická odchylka výšek se zdá být kromě oblasti 10% až 15% nezávislá na trvání cyklu. Mimo tuto oblast se střední kvadratické odchylky pohybovaly v rozmezí od 6,3 do 14,8 nm, zatímco pro trvání cyklu 10% je to 96,3 nm a pro 15% 61,7 nm. Bohužel se měnila i doba depozice, která koresponduje s tlouštkami vrstev. Toto by mohl být důvod pro několikanásobně větší drsnost uvnitř oblasti. Bylo by potřeba dalšího studia problému.