2005
Optical Emission Spectroscopy in HMDSO/O2 RF Glow Discharge
ŠMÍD, Radek a Lenka ZAJÍČKOVÁZákladní údaje
Originální název
Optical Emission Spectroscopy in HMDSO/O2 RF Glow Discharge
Název česky
Optická emisní spektroskopie v HMDSO/O2 vysokofrekvenčních doutnavých výbojích
Autoři
ŠMÍD, Radek (203 Česká republika, garant) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika)
Vydání
1. vyd. Praha, WDS'05 Proceedings of Contributed Papers, Part II, od s. 408-413, 6 s. 2005
Nakladatel
MATFYZPRESS
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00014213
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
80-86732-59-2
Klíčová slova anglicky
Optical emission spectroscopy; hexamethyldisiloxane; oxygen; deposition
Příznaky
Recenzováno
Změněno: 9. 1. 2008 10:53, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
We applied optical emission spectroscopy to study HMDSO/O2 plasmas and detected emission lines and bands related to CO, CO2+, OH, CH, H, H2, O, N2 as an impurity and Ar as an actinometer. We have observed only very low emission of Si and SiO. With increasing rf power the increasing concentration of electrons probably caused increasing intensity of emission. This was confirmed for the concentration of oxygen radicals by actinometry. The changes of HMDSO fraction have much more significant influence on the gas phase composition. The oxygen containing molecules (CO, OH) show the same trend on the HMDSO fraction with a maximum at 0.16. The CH and H species show also similar trends to each other with the maximum at 0.28. It is interesting to notice that this trend was not observed for H2 molecule which intensity increase constantly with the HMDSO fraction. The oxygen atomic line, on the other hand, decreased.
Česky
Použili jsme optickou emisní spektroskopii ke studování HMDSO/O2 plazmatu a detegovali emisní čáry a pásy těchto částic:CO, CO2+, OH, CH, H, H2, O, N2 a Ar jako aktinomeru. Pozorovali jsme jen velmi slabou emisi pro Si a SiO. S rostoucím (vysokofrekvenčním) výkonem jsme pozorovali rostoucí intezitu emise, způsobenou zřejmě rostoucí elektronové koncentraci. Což bylo potvrzeno koncentraci radikálů pomocí aktinometrie. Změny v procentuálním zastoupení HMDSO nemají značný vliv na složení plynu. Molekuly obsahující kyslík (Co, OH) mají společné maximum pro 16% HMDSO. CH a H mají také podobné trendy s maximem okolo 28%. Naproti tomu intenzita H2 molekuly roste s rostoucím zastoupením HMDSO. Atomární čára kyslíku naopak klesá.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
| ||
| 1K05025, projekt VaV |
|