2005
Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films
OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Vlastimil ČUDEK; Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.Základní údaje
Originální název
Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films
Název česky
Vliv technologických podmínek na mechanické pnutí v diamantu podobných vrstvách
Autoři
OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Vlastimil ČUDEK; Vilma BURŠÍKOVÁ; Petr KLAPETEK a Kateřina PÁLENÍKOVÁ
Vydání
Diamond and Related Materials, New York, Elsevier Science S.A. 2005, 0925-9635
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 1.988
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00014248
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000233983600022
Klíčová slova anglicky
intrisic stress; DLC; PECVD
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 8. 2. 2008 19:27, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
V originále
In this paper the influences of the technological conditions, i.e. the influences of the hydrogen flow rate and deposition time, on the values of the intrinsic mechanical stresses inside the diamond-like carbon (DLC) thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon substrates are studied. These stresses are measured by two-beam interferometry and optical profilometry based on chromatic aberration through the measurements of deformations of the silicon substrates originating in consequence of the film stresses. It is shown that the influence of the deposition time (i.e. film thickness) on the film stress is relatively slight in contrast to the influence of the hydrogen flow rate on this quantity. It is namely shown that the film stresses are influenced by the hydrogen flow rate values in a pronounced way within the interval of interest, i.e. within the interval 1-7 sccm. Moreover, it is shown that the method of optical profilometry used can be competitive to the method of two-beam interferometry from the practical point of view.
Česky
V tomto článku jsou studovány vlivy technologických podmínek, tj. vlivy průtoku vodíku a doby deposice, na hodnoty vnitřního mechanického napětí uvnitř diamantu podobných uhlíkových (DLC) tenkých vrstev připravených plasmaticky podporovanou chemickou deposicí v parách na podložky tvořené monokrystalickým křemíkem. Toto napětí je měřeno pomocí dvoupaprskové interferometrie a optické profilometrie založené na chromatické aberaci prostřednictvím měření deformace podložek křemíku vznikající v důsledku napětí ve vrstvách. Je ukázáno, že vliv času deposice (tj. tloušťky) na napětí ve vrstvách je je relativně slabý na rozdíl od od vlivu průtoku vodíku. Je totiž ukázáno, že napětí ve vrstvách je ovlivněno průtokem vodíku výrazným způsobem v rámci intervalu, který nás zajímá, tj. v rámci intervalu 1-7 sccm. Navíc je ukázáno, že použitá metoda optické profilometrie může být konkurenční metodou pro metodu dvoupaprskové interferometrie z praktického hlediska.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
|