J 2005

Comparison of the ionisation efficiency in a microwave and a radio-frequency assisted magnetron discharge

DE POUCQUES, Ludovic; Jean-Christophe IMBERT; Petr VAŠINA; Caroline BOISSE-LAPORTE; Lionel TEULÉ-GAY et al.

Základní údaje

Originální název

Comparison of the ionisation efficiency in a microwave and a radio-frequency assisted magnetron discharge

Název česky

Srovnání ionizační účinnosti mikrovlnného a radio-frekvenčního výboje doprovázejícího magnetronový výboje

Autoři

DE POUCQUES, Ludovic; Jean-Christophe IMBERT; Petr VAŠINA; Caroline BOISSE-LAPORTE; Lionel TEULÉ-GAY; Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU

Vydání

Surface and Coating Technology, New York, ELSEVIER, 2005, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.646

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00012904

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

IPVD; sputtering; magnetron discharge; microwave discharge; RF discharge; absorption spectroscopy
Změněno: 23. 2. 2006 14:53, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

V originále

Comparison of two sources of ionisation in an IPVD reactor, microwave and RF discharge.

Česky

Srovnání dvou zdrojů ionisace pri magnetronovém naprašováni, dodatečného mikrovlnného a RF výboje.

Návaznosti

GD202/03/H162, projekt VaV
Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek