Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical
vapour deposition

J 2005

Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition

GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Yoann PAINT; Jean-Pierre DAUCHOT; Michel HECQ et al.

Základní údaje

Originální název

Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition

Název česky

Preionizovany pulzni magnetronovy vyboj pro IPVD

Autoři

GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Yoann PAINT; Jean-Pierre DAUCHOT; Michel HECQ; Ludovic DE POUCQUES; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Christophe IMBERT; Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU

Vydání

Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, Bucharest, INOE & INFM, 2005, 1454-4164

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Rumunsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.138

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00012906

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000232894100038

Klíčová slova anglicky

pulsed magnetron; preionization; transport processes

Štítky

preionization, pulsed magnetron, transport processes

Změněno: 23. 2. 2006 15:11, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of the sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition (IPVD) method based on preionised Pulsed magnetron discharges. By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses. Efficient vapour ionisation is obtained and due to the current pulse shortness, electric arc development is avoided.

Česky

Diagnostika preionizovaneho pulzniho magnetronoveho vyboje

Návaznosti

GD202/03/H162, projekt VaV

Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Yoann PAINT; Jean-Pierre DAUCHOT; Michel HECQ; Ludovic DE POUCQUES; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Christophe IMBERT; Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU. Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials. Bucharest: INOE & INFM, 2005, roč. 7, č. 5, s. 2481-2483. ISSN 1454-4164.

@article{596584,
   author = {Ganciu, Mihai and Konstantinidis, Stephanos and Paint, Yoann and Dauchot, JeanandPierre and Hecq, Michel and de Poucques, Ludovic and Vašina, Petr and Meško, Marcel and Imbert, JeanandChristophe and Bretagne, Jean and Touzeau, Michel},
   article_location = {Bucharest},
   article_number = {5},
   keywords = {pulsed magnetron; preionization; transport processes},
   language = {eng},
   issn = {1454-4164},
   journal = {Journal of Optoelectronics and Advanced Materials},
   title = {Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition},
   volume = {7},
   year = {2005}
}

TY  - JOUR
ID  - 596584
AU  - Ganciu, Mihai - Konstantinidis, Stephanos - Paint, Yoann - Dauchot, Jean-Pierre - Hecq, Michel - de Poucques, Ludovic - Vašina, Petr - Meško, Marcel - Imbert, Jean-Christophe - Bretagne, Jean - Touzeau, Michel
PY  - 2005
TI  - Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition
JF  - Journal of Optoelectronics and Advanced Materials
VL  - 7
IS  - 5
SP  - 2481
EP  - 2481
PB  - INOE & INFM
SN  - 14544164
KW  - pulsed magnetron
KW  - preionization
KW  - transport processes
N2  - To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of the sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition (IPVD) method based on preionised Pulsed magnetron discharges. By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses. Efficient vapour ionisation is obtained and due to the current pulse shortness, electric arc development is avoided.
ER  -

GANCIU, Mihai; Stephanos KONSTANTINIDIS; Yoann PAINT; Jean-Pierre DAUCHOT; Michel HECQ; Ludovic DE POUCQUES; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Christophe IMBERT; Jean BRETAGNE a Michel TOUZEAU. Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition. \textit{Journal of Optoelectronics and Advanced Materials}. Bucharest: INOE \&{} INFM, 2005, roč.~7, č.~5, s.~2481-2483. ISSN~1454-4164.

Přehled o publikaci