Reduction of transient regime in fast preionized high power
pulsed magnetron discharge

J 2005

Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge

VAŠINA, Petr; Marcel MEŠKO; Mihai GANCIU; Jean BRETAGNE; Caroline BOISSE-LAPORTE et al.

Základní údaje

Originální název

Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge

Název česky

Omezení pechodového režimu pi pulzním magnetronovém naprašování

Autoři

VAŠINA, Petr; Marcel MEŠKO; Mihai GANCIU; Jean BRETAGNE; Caroline BOISSE-LAPORTE; Ludovic DE POUCQUES a Michel TOUZEAU

Vydání

Europhysics Letters, Paríž, European Physical Society, 2005, 0295-5075

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.237

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00012968

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000233556300010

Klíčová slova anglicky

pulsed magnetron; sputtering; preionization

Štítky

preionization, pulsed magnetron, sputtering

Změněno: 23. 2. 2006 16:01, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He bufer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.

Česky

Prezentace stabilního pulzního magnetronového výboje. Pro stabilizicaci depoziního procesu byla použita preionizace.

Návaznosti

GD202/03/H162, projekt VaV

Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

VAŠINA, Petr; Marcel MEŠKO; Mihai GANCIU; Jean BRETAGNE; Caroline BOISSE-LAPORTE; Ludovic DE POUCQUES a Michel TOUZEAU. Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge. Europhysics Letters. Paríž: European Physical Society, 2005, roč. 72, č. 3, s. 390-395, 5 s. ISSN 0295-5075.

@article{599364,
   author = {Vašina, Petr and Meško, Marcel and Ganciu, Mihai and Bretagne, Jean and BoisseandLaporte, Caroline and de Poucques, Ludovic and Touzeau, Michel},
   article_location = {Paríž},
   article_number = {3},
   keywords = {pulsed magnetron; sputtering; preionization},
   language = {eng},
   issn = {0295-5075},
   journal = {Europhysics Letters},
   title = {Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge},
   volume = {72},
   year = {2005}
}

TY  - JOUR
ID  - 599364
AU  - Vašina, Petr - Meško, Marcel - Ganciu, Mihai - Bretagne, Jean - Boisse-Laporte, Caroline - de Poucques, Ludovic - Touzeau, Michel
PY  - 2005
TI  - Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge
JF  - Europhysics Letters
VL  - 72
IS  - 3
SP  - 390-395
EP  - 390-395
PB  - European Physical Society
SN  - 02955075
KW  - pulsed magnetron
KW  - sputtering
KW  - preionization
N2  - A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He bufer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.
ER  -

VAŠINA, Petr; Marcel MEŠKO; Mihai GANCIU; Jean BRETAGNE; Caroline BOISSE-LAPORTE; Ludovic DE POUCQUES a Michel TOUZEAU. Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge. \textit{Europhysics Letters}. Paríž: European Physical Society, 2005, roč.~72, č.~3, s.~390-395, 5 s. ISSN~0295-5075.

Přehled o publikaci