Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Miroslav VALTR, Vratislav PEŘINA, Anna MACKOVÁ a Jana HOUDKOVÁ. Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane. In 17th International Symposium on Plasma Chemistry. Toronto, Kanada: University of Toronto Press Inc., 2005, s. 589-590.

Základní údaje

• Originální název: Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane
• Název česky: Plazmochemická depozice tvrdých DLC/SiOx vrstev z metanu a hexametyldisiloxanu
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Miroslav VALTR (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika), Anna MACKOVÁ (203 Česká republika) a Jana HOUDKOVÁ (203 Česká republika).
• Vydání: Toronto, Kanada, 17th International Symposium on Plasma Chemistry, od s. 589-590, 2 s. 2005.
• Nakladatel: University of Toronto Press Inc.

Další údaje

• Originální jazyk: angličtina
• Typ výsledku: Stať ve sborníku
• Obor: 10305 Fluids and plasma physics
• Stát vydavatele: Kanada
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/05:00014526
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova anglicky: DLC; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD
• Štítky: DLC, ERD, Hexamethyldisiloxane, PECVD, RBS, RF discharge
• Příznaky: Mezinárodní význam

Anotace

In present paper we give some new results on our previously reported hard DLC/SiOx films deposited from the mixtures of CH4 and HMDSO and compare them with similar films deposited from CH4/HMDSO/H2 mixtures using a different generator. We show that significant drawbacks of the DLC films, high intrinsic stress, bad thermal stability and absorption in the visible range, can be limited by an incorporation of the SiOx component and we notice that this conclusion is achieved for many DLC/SiOx films in spite of the different method of preparation and, more surprisingly, of their different structure. However, particular film properties can be further improved by an optimization of the deposition conditions as concluded from the higher hardness of the films deposited from the CH4/HMDSO/H2 compared to the CH4/HMDSO feed.

Anotace česky

V tomto článku jsou ukázány některé nové výsledky získané při studiu depozice a vlastností již dříve studovaných DLC/SiOx vrstev připravených ze směsi CH4 a HMDSO. Tyto vrstvy jsou dále srovnávány s vrstvami připravenými ze směsi CH4/HMDSO/H2 za použití jiného generátoru. Je ukázáno, že podstatná nevýhoda DLC vrstev, tj. vysoké vnitřní pnutí, špatná tepelná stabilita a absorpce ve viditelné oblasti, mohou být eliminovány přidáním komponenty SiO2 do vrstev. Docházíme k závěru, že tato skutečnost je obecnou vlastností DLC/SiOx vrstev nezávisle na postupu přípravy i rozdílné struktuře. Nicméně konkrétní vlastnosti vrstev mohou být dále optimalizovány změnou depozičních podmínek, což je ukázáno na vyšší tvrdosti vrstev z CH4/HMDSO/H2 ve srovnání s CH4/HMDSO.

Návaznosti

• MSM0021622411, záměr: Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

• 1K05025, projekt VaV: Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou