ZAJÍČKOVÁ, Lenka. PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích. 2005.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích
Název anglicky PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant).
Vydání 2005.
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Audiovizuální tvorba
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00014527
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace
Štítky PECVD, plazma, plazmochemická depozice, plazmová modifikace
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 9. 1. 2008 11:17.
Anotace
Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů.
Anotace anglicky
The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces.
Návaznosti
1K05025, projekt VaVNázev: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
VytisknoutZobrazeno: 27. 7. 2024 14:39