D 2005

Ionized physical vapor deposition by high power fast pulsed magnetron discharge

GANCIU, Mihai; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Christophe IMBERT; Ludovic DE POUCQUES et al.

Základní údaje

Originální název

Ionized physical vapor deposition by high power fast pulsed magnetron discharge

Název česky

Rychlý pulzní magnetronový výboj velkého výkonu pro IPVD

Autoři

GANCIU, Mihai; Petr VAŠINA; Marcel MEŠKO; Jean-Christophe IMBERT; Ludovic DE POUCQUES; Caroline BOISSE-LAPORTE; Jean BRETAGNE; Michel TOUZEAU; Olivier VOLDOIRE; Marie-Christine HUGON a Bernard AGIUS

Vydání

Paris, Actes du workshop Nouveaux oxydes a forte permittivite dans l integration des semi-conducteurs, od s. 83-89, 7 s. 2005

Nakladatel

Societe Francaise du Vide

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00013096

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

pulsed magnetron discharge; IPVD
Změněno: 23. 2. 2006 15:02, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

V originále

Study of newly developed preionized (by low DC current) high power pulsed magnetron discharge.

Česky

Studium nově vyvinutého pulzního magnetronového výboje s preionizací

Návaznosti

GD202/03/H162, projekt VaV
Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek