2005
Ge/Si islands in a three-dimensional island crystal studied by x-ray diffraction
NOVÁK, Jiří; Václav HOLÝ; Julian STANGL; Thomas FROMHERZ; Zhong ZHENYANG et. al.Základní údaje
Originální název
Ge/Si islands in a three-dimensional island crystal studied by x-ray diffraction
Název česky
Studium třídimnzionálního krystalu Ge/Si ostrůvků RTG difrakcí
Autoři
NOVÁK, Jiří; Václav HOLÝ; Julian STANGL; Thomas FROMHERZ; Zhong ZHENYANG; Chen GANG; Günther BAUER a Bernd STRUTH
Vydání
Journal of Applied Physics, USA, American institute of physics, 2005, 0021-8979
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 2.498
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00014559
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000232558200023
Klíčová slova anglicky
ASSEMBLED GE ISLANDS; QUANTUM DOTS; STRAIN; NANOSTRUCTURES; STACKING; X-RAY DIFFRACTION
Změněno: 12. 2. 2007 14:17, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.
V originále
An analysis of coplanar high-angle x-ray-diffraction data was performed and structural information on buried Ge islands forming a 3D island crystal was obtained. We have demonstrated that the combination of an analytical solution of the equilibrium equations of linear elasticity with kinematical scattering theory can be used to simulate the experimental x-ray-diffraction data. The strain state in the buried islands and their surrounding Si matrix was determined. The Ge content in the islands is found to be on the average 40%, and the island shape does not change dramatically during capping.
Česky
V článku je prezentována analýza experimentálních dat z měření na tří dimenzionálním krystalu Ge/Si(001) ostrůvků ve vysokoúhlé RTG difrakci. Prokázali jsme, že kombinace analytického řešení rovnic rovnováhy lineární elasticity a teorie kinematického rozptylu mohou být úspěšně použity k simulaci dat z RTG difrakce. Byly získány strukturní vlastnosti Ge ostrůvků, deformace krystalografické mřížky v ostrůvcích a okolní Si matici. Ukázalo se, že po zarostení do Si matice klesla koncentrace Ge v ostrůvcích na 40%, jejich tvar se však výrazně nezměnil.
Návaznosti
| MSM0021622410, záměr |
|