J 2005

Ge/Si islands in a three-dimensional island crystal studied by x-ray diffraction

NOVÁK, Jiří; Václav HOLÝ; Julian STANGL; Thomas FROMHERZ; Zhong ZHENYANG et. al.

Základní údaje

Originální název

Ge/Si islands in a three-dimensional island crystal studied by x-ray diffraction

Název česky

Studium třídimnzionálního krystalu Ge/Si ostrůvků RTG difrakcí

Autoři

NOVÁK, Jiří; Václav HOLÝ; Julian STANGL; Thomas FROMHERZ; Zhong ZHENYANG; Chen GANG; Günther BAUER a Bernd STRUTH

Vydání

Journal of Applied Physics, USA, American institute of physics, 2005, 0021-8979

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.498

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00014559

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000232558200023

Klíčová slova anglicky

ASSEMBLED GE ISLANDS; QUANTUM DOTS; STRAIN; NANOSTRUCTURES; STACKING; X-RAY DIFFRACTION
Změněno: 12. 2. 2007 14:17, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.

Anotace

V originále

An analysis of coplanar high-angle x-ray-diffraction data was performed and structural information on buried Ge islands forming a 3D island crystal was obtained. We have demonstrated that the combination of an analytical solution of the equilibrium equations of linear elasticity with kinematical scattering theory can be used to simulate the experimental x-ray-diffraction data. The strain state in the buried islands and their surrounding Si matrix was determined. The Ge content in the islands is found to be on the average 40%, and the island shape does not change dramatically during capping.

Česky

V článku je prezentována analýza experimentálních dat z měření na tří dimenzionálním krystalu Ge/Si(001) ostrůvků ve vysokoúhlé RTG difrakci. Prokázali jsme, že kombinace analytického řešení rovnic rovnováhy lineární elasticity a teorie kinematického rozptylu mohou být úspěšně použity k simulaci dat z RTG difrakce. Byly získány strukturní vlastnosti Ge ostrůvků, deformace krystalografické mřížky v ostrůvcích a okolní Si matici. Ukázalo se, že po zarostení do Si matice klesla koncentrace Ge v ostrůvcích na 40%, jejich tvar se však výrazně nezměnil.

Návaznosti

MSM0021622410, záměr
Název: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur