DANIŠ, Stanislav a Václav HOLÝ. Diffuse X-ray scattering from misfit and threading dislocations in relaxed epitaxial layers. Journal of Alloys and Compounds. Amsterdam: Elsevier, 2005, roč. 401, 1-2, s. 217-220. ISSN 0925-8388.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Diffuse X-ray scattering from misfit and threading dislocations in relaxed epitaxial layers
Název česky Difuzní rtg rozptyl od misfit a threading dislokací v relaxovaných epitaxních vrstvách
Autoři DANIŠ, Stanislav (203 Česká republika) a Václav HOLÝ (203 Česká republika, garant).
Vydání Journal of Alloys and Compounds, Amsterdam, Elsevier, 2005, 0925-8388.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Nizozemské království
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 1.370
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00013219
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000232267700040
Klíčová slova anglicky Diffuse X-ray scattering from misfit and threading dislocations in relaxed epitaxial layers
Změnil Změnil: prof. RNDr. Václav Holý, CSc., učo 1656. Změněno: 12. 2. 2007 14:17.
Anotace
Diffuse X-ray scattering from misfit and threading dislocations in relaxed epitaxial layers
Anotace česky
Difuzní rtg rozptyl od misfit a threading dislokací v relaxovaných epitaxních vrstvách
Návaznosti
GA202/03/0148, projekt VaVNázev: Anomální rozptyl rtg záření na polovodičových nanostrukturách
Investor: Grantová agentura ČR, Anomální rozptyl rtg záření na polovodičových nanostrukturách
MSM0021622410, záměrNázev: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
VytisknoutZobrazeno: 6. 5. 2024 17:49