D 2006

Nucleation and Precipitation of Interstitial Oxygen in Czochralski Silicon

ŠTOUDEK, Richard, Pavel KLANG, Alan KUBĚNA a Josef KUBĚNA

Základní údaje

Originální název

Nucleation and Precipitation of Interstitial Oxygen in Czochralski Silicon

Název česky

Nukleace a precipitace intersticiálního kyslíku v Czochralského křemíku

Autoři

ŠTOUDEK, Richard (203 Česká republika, garant), Pavel KLANG (203 Česká republika), Alan KUBĚNA (203 Česká republika) a Josef KUBĚNA (203 Česká republika)

Vydání

Rožnov pod Radhoštěm, Česká republika, Proceedings of The Tenth Scientific and Business Conference SILICON 2006, od s. 283-284, 2 s. 2006

Nakladatel

TECON Scientific, s.r.o.

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/06:00017572

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-239-7781-4

Klíčová slova anglicky

Nucleation; Precipitation; Interstitial oxygen; Silicon; Infrared absorption
Změněno: 14. 11. 2006 14:36, Mgr. Richard Štoudek, Ph.D.

Anotace

V originále

Infrared absorption spectroscopy has been applied to study interstitial oxygen (Oi) and oxygen precipitates in a series of multi-step annealed silicon samples. We have adopted Ham's theory of diffusion-limited precipitation. Then we have been able to determine concentration of the oxygen precipitates in the samples from decrease of Oi concentration during the high temperature annealing. We have also used triple-axis high-resolution x-ray diffraction to measure reciprocal space maps of these samples.

Česky

Ke studiu intersticiálního kyslíku a kyslíkových precipitátů v sérii vícestupňově žíhaných křemíkových vzorků jsme použili infračervenou absorpční spektroskopii. Převzali jsme Hamovu teorii difúzí řízené precipitace. Potom jsme mohli z úbytku koncentrace Oi během vysokoteplotního žíhání stanovit koncentraci kyslíkových precipitátů ve vzorcích. Pro naměření map reciprokého prostoru těchto vzorků jsme použili trojosou rtg difrakci s vysokým rozlišením.

Návaznosti

MSM0021622410, záměr
Název: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur