2006
Electron Density and Ion Flux in Diffusion Chamber of Low Pressure RF Helicon Reactor
ŠMÍD, Radek; Agnès GRANIER; Angelique BOUSQUET; Gilles CARTRY; Lenka ZAJÍČKOVÁ et al.Základní údaje
Originální název
Electron Density and Ion Flux in Diffusion Chamber of Low Pressure RF Helicon Reactor
Název česky
Koncentrace elektronů a tok iontů v difúzní komoře nízkotlakého vf helikonového reaktoru
Autoři
ŠMÍD, Radek; Agnès GRANIER; Angelique BOUSQUET; Gilles CARTRY a Lenka ZAJÍČKOVÁ
Vydání
Praha, WDS'06 Proceedings of Contributed Papers, Part II, od s. 150-155, 6 s. 2006
Nakladatel
MATFYZPRESS
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/06:00016195
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
80-86732-85-1
Klíčová slova anglicky
Langmuir probe; planar probe; ion flux; electron density
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 16:58, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
The electron density, ion flux and argon emission lines were measured in a radio frequency helicon reactor for different static magnetic field amplitude and low rf powers using cylindrical Langmuir probe, planar probe and optical emission spectroscopy (OES). The static magnetic field amplitude created around the plasma source varied from 0 to 10 mT in the helicon source and from 0 to 1.4 mT in the diffusion chamber. The discharge was created in argon and oxygen at 0.7 Pa with rf powers, between 50 and 600 W, applied to the helicon antenna. The variations of the electron density, ion flux taken from Langmuir probe measurement and from planar probe measurement and Ar 750 nm line intensity with the rf power were in good agreement. Hence, it is concluded that the maximum of electron density observed in the diffusion chamber for the highest values of magnetic field is likely to be due to some confinement of the plasma in the source. Measurements in oxygen discharge showed slightly different results.
Česky
Koncentrace elektronů a tok iontů byli měřeny ve vysokofrekvenčním helikonovém reaktoru pří různých magnetických polích, tlaku 0,7 Pa a při vf výkonech 25-600 W pomocí válcové Langmuirovy sondy, planární sondy a optické emisní spetroskopie. Výsledky byly srovnávány.
Návaznosti
| GD202/03/H162, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|