2006
IN-SITU INVESTIGATIONS OF SI AND GE INTERDIFFUSION IN SI CASCADE STRUCTURES
MEDUŇA, Mojmír, Jiří NOVÁK, Václav HOLÝ, Claudiu FALUB, Günther BAUER et. al.Základní údaje
Originální název
IN-SITU INVESTIGATIONS OF SI AND GE INTERDIFFUSION IN SI CASCADE STRUCTURES
Název česky
In-situ studie Si a Ge interdifuse v Si kaskádových strukturách
Autoři
MEDUŇA, Mojmír (203 Česká republika, garant), Jiří NOVÁK (203 Česká republika), Václav HOLÝ (203 Česká republika), Claudiu FALUB (642 Rumunsko), Günther BAUER (40 Rakousko) a Detlev GRÜTZMACHER (276 Německo)
Vydání
Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology, Praha, 2006, 1211-5894
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/06:00016353
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
x-ray diffraction; interdiffusion; SiGe
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam
Změněno: 24. 1. 2007 15:03, Mgr. Mojmír Meduňa, Ph.D.
V originále
We have studied series of strain symmetrized multiple quantum well structures grown on Si0.25Ge0.25 and Si0.5Ge0.5 pseudosubstrates. The Ge content in these structures was 30% and 80% with multilayer periods in the range from 6 to 13 nm. X-ray reflectivity and diffraction reciprocal space maps for all structures have been recorded at room temperature and during annealing.
Česky
Studovali jsme sérii deformačně symetrizovaných struktur mnohonásobných kvantových jam vypěstovaných na Si0.25Ge0.25 a Si0.5Ge0.5 pseudosubstrátech. Obsah Ge v těchto strukturách byl 30% a 80% s periodami multivrstev v rozsahu od 6 do 13 nm. Reciproké mapy rtg reflexe a difrakce pro všechny struktury byly zaznamenány za pokojové teploty a během žíhání.
Návaznosti
| GP202/05/P286, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622410, záměr |
|