D 2006

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

FRANTA, Daniel; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Thomas BEGOU; Angelique BOUSQUET; Agnes GRANIER et al.

Základní údaje

Originální název

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Název česky

Modelovani optickych konstant organosilikonovych vrstev pomoci paramtrizave hustoty stavu

Autoři

FRANTA, Daniel; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Thomas BEGOU; Angelique BOUSQUET; Agnes GRANIER; Bruno BECHE a Antoine GOULLET

Vydání

2006. vyd. Berlin, 4th Workshop Ellipsometry, od s. 110-111, 1 s. 2006

Nakladatel

Uwe Beck

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/06:00018470

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

3-00-018751-0

Klíčová slova anglicky

optical-konstant-organosilicon-density-states

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 25. 1. 2007 22:04, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

Česky

Modelovani optickych konstant organosilikonovych vrstev pomoci paramtrizave hustoty stavu

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou