D 2007

Model of reactive magnetron sputtering process with non-uniform discharge current density

VAŠINA, Petr; Tereza HYTKOVÁ a Marek ELIÁŠ

Základní údaje

Originální název

Model of reactive magnetron sputtering process with non-uniform discharge current density

Název česky

Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou

Autoři

Vydání

Praha, Proceeding of XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases, od s. 1-4, 4 s. 2007

Nakladatel

Institute of Plasma Physics AVCR

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/07:00020496

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-87026-01-4

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; reactive; Berg

Štítky

Změněno: 5. 1. 2010 11:15, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Model of reactive magnetron sputtering process with non-uniform discharge current density, proceeding

Česky

Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou, sborník

Návaznosti

GA202/05/0111, projekt VaV
Název: Studium kinetických procesů v dohasínajícím dusíkovém plazmatu s ohledem na jejich využití v chemické analýze
Investor: Grantová agentura ČR, Studium kinetických procesů v dohasínajícím dusíkovém plazmatu s ohledem na jejich využití v chemické analýze
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek