BRABLEC, Antonín, N. N. GUIVAN, Pavel SŤAHEL, Pavel SLAVÍČEK, L. L. SHIMON a Jan JANČA. Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge. In XIIVth symposium on Physics of Switching Arc, Vol. II: Invited Papers. 1. vyd. Brno: VUT Brno. s. 37-40. ISBN 978-80-214-3359-5. 2007.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge
Název česky Generace XeI UV excimerního záření pomocí difuzního koplanárního povrchového výboje
Autoři BRABLEC, Antonín (203 Česká republika, garant), N. N. GUIVAN (804 Ukrajina), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika), L. L. SHIMON (804 Ukrajina) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Brno, XIIVth symposium on Physics of Switching Arc, Vol. II: Invited Papers, s. 37-40, 2007.
Nakladatel VUT Brno
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/07:00023867
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-214-3359-5
UT WoS 000268099400009
Klíčová slova anglicky excimer radiation; dielectric barrier discharge
Štítky dielectric barrier discharge, excimer radiation
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc., učo 79. Změněno: 28. 3. 2010 21:58.
Anotace
Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge and estimation of optimal parameters of the device as well as working paressures, ratio of individual gases in the mixture and others.
Anotace česky
Generace excimerního UV záření molekulami XeI pomocí diffusního koplanárního povrchového výboje a určení optimálních parametrů zařízení, jakož i pracovních tlaků, poměru jednotlivých plynů ve směsi a další.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 13:44