J 2008

Photoelectron spectroscopy from randomly corrugated surfaces

ZEMEK, Josef; Kamil OLEJNÍK a Petr KLAPETEK

Základní údaje

Originální název

Photoelectron spectroscopy from randomly corrugated surfaces

Název česky

Fotoelektronová spektroskopie náhodně drsných povrchů

Autoři

ZEMEK, Josef; Kamil OLEJNÍK a Petr KLAPETEK

Vydání

Surface science, Amsterdam, Elsevier, 2008, 0039-6028

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.731

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00028408

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000255302600020

Klíčová slova anglicky

X-ray photoelectron spectroscopy; Surface roughness; Random surface roughness; AFM; Monte Carlo calculation; Overlayer thickness estimation

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 4. 7. 2009 18:26, Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D.

Anotace

V originále

The influence of random surface roughness on photoelectron intensities has been investigated by angular-resolved photoelectron spectroscopy and advanced calculations. Randomly corrugated silicon surfaces covered by a native silicon oxide, characterized by atomic force microscopy (AFM), were considered in calculations including the shadowing of photoelectrons and the differences between microscopic and macroscopic electron emission geometry. It is shown that the photoelectron intensity is mainly influenced by the spread of a local area distribution of slopes. The error induced by the random surface corrugation can be, however, acceptably low for the spread lesser than 35 degrees.

Návaznosti

AV0Z10100521, záměr
Název: Fyzikální vlastnosti a příprava nanostruktur, povrchů a tenkých vrstev
GA202/06/0459, projekt VaV
Název: Interakce elektronů s neuspořádanými povrchy pevných látek