2008
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Název česky
Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
Autoři
DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Petr VAŠINA (203 Česká republika)
Vydání
32 A. Granada, 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, od s. 78P (topic 5), 2 s. 2008
Nakladatel
European Physical Society
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Španělsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00024832
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
2-914771-04-5
Klíčová slova anglicky
magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics;
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 7. 8. 2008 09:52, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
The fundamental and the higher harmonics of the cathode voltage and of the uncompensated probe potential were used as a tool to control the reactive magnetron sputtering. It was shown that this methode is very sensitive and is suitable for the control of the deposition process.
Česky
Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.
Návaznosti
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|