2008
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
VAŠINA, Petr, Tereza HYTKOVÁ a Marek ELIÁŠZákladní údaje
Originální název
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Název česky
Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
Autoři
VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant), Tereza HYTKOVÁ (203 Česká republika) a Marek ELIÁŠ (203 Česká republika)
Vydání
Praha, Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008, od s. 172-173, 2 s. 2008
Nakladatel
České vysoké učení technické
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00024850
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-01-04030-0
Klíčová slova anglicky
hysteresis; reactive sputtering
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 7. 8. 2008 10:03, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
Theoretical study of role of neutral gas temperature on hysteresis behaviour of reactive sputtering deposition process
Česky
Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování
Návaznosti
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|