D 2008

Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process

VAŠINA, Petr; Tereza HYTKOVÁ a Marek ELIÁŠ

Základní údaje

Originální název

Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process

Název česky

Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování

Autoři

Vydání

Granada, 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, od s. 165-166, 2 s. 2008

Nakladatel

European Physical Society

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Španělsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00024856

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

2-914771-04-5

Klíčová slova anglicky

reactive magnetron sputering; target

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2010 09:16, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process, proceeding, interdisciplinary study of plasma physics

Česky

Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování, sborník, mezioborova studie fyzika plazmatu

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek