J 2008

DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE

STUDNIČKA, Filip; David TRUNEC; Pavel SŤAHEL; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lukáš KELAR et al.

Základní údaje

Originální název

DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE

Název česky

Depozice tenkých vrstev v doutnavém výboji za atmosférického tlaku ve směsi N2 + HMDS + O2

Autoři

Vydání

Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008, 2008, 1803-2389

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00025101

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Klíčová slova anglicky

plasma deposition

Štítky

Změněno: 19. 12. 2008 09:06, doc. Mgr. Pavel Sťahel, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

THIN FILMS WERE DEPOSITED IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE. THE HARDNESS OF THESE FILMS WAS INCREASED IN COMPARISON WITH FILMS DEPOSITED IN N2 + HMDSO ATMOSPHERE.

Česky

TENKÉ VRSTVY BYLY DEPONOVÁNY VE SMĚSI N2 + HMDSO + O2. TVRDOST TĚCHTO VRSTEV VZROSTLA OPROTI VRSTVÁM DEPONOVANÝM VE SMĚSI N2 + HMDSO.

Návaznosti

GA202/06/1473, projekt VaV
Název: Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku