2008
DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
STUDNIČKA, Filip; David TRUNEC; Pavel SŤAHEL; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lukáš KELAR et al.Základní údaje
Originální název
DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Název česky
DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Autoři
Vydání
Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008, 2008, 1803-2389
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00025102
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova anglicky
plasma deposition
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 31. 3. 2010 07:16, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
V originále
The aim of the work was to study the deposition of thin films in ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 atmosphere. The mechanical properties of films were studied by indentation techniques. The films exhibited hardnes in the range from 0.5 to 7 GPa depending on the deposition conditions.
Česky
Článek se zabývá depozicí tenkých vrstev v atmosférickém homogenním výboji ve směsi N2 + HMDSO + O2. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly změřeny metodou indentační a tvrdost vrstev byla v rozmezí 0.5 až 7 GPa v závislosti na depozičních podmínkách.
Návaznosti
| GA202/06/1473, projekt VaV |
|