D 2008

Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

ELIÁŠ, Marek; Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

Název česky

Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním

Autoři

ELIÁŠ, Marek; Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Vydání

Brno, Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry, s. 105-105, 2008

Nakladatel

Masaryk University

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00025120

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

hybrid deposition process; hysteresis

Štítky

Změněno: 23. 12. 2008 11:07, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering, proceeding

Česky

Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, sborník

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek